中國半導體光罩產業發展動態

摘要

光罩(Photomask)又稱掩膜版、光掩膜等,是微電子製造過程中的圖形轉移工具或母版,是承載圖形設計和工藝技術等智慧財產權資訊的載體。光罩品質的優劣將直接影響光刻品質,通常1片晶圓所需電路圖樣要由15~30片以上光罩堆疊而成。光罩廣泛應用於半導體、面板與印刷電路板,其中半導體光罩份額約60%,製作難度也最高,本篇報告重點敘述用於半導體製程的光罩情況。

 

中國半導體光罩產業發展動態

 

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