從國產DUV設備到開放模型，中國持續聚焦AI自主化布局

拓墣觀點： 2026年7月底，外媒報導中國正推進193nm浸潤式(Immersion) DUV光刻機研發與導入驗證。於此期間，亦有新創陸企月之暗面推出Kimi K3並開放模型權重。2事件雖分屬不同技術領域，且成熟度與確定性存在差異，但皆反映中國正透過軟硬體生態建設，提高AI[...]

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2026年光通訊市場趨勢：(1) Wide and Slow：受到生成式AI興起，高速光通訊需求急遽提升，Micro LED能耗僅1～2pJ/bit、資料傳輸密度高達2Tbps/mm2，且具有≤ [...]